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Creme dental em pó de sílica hidratada de grau alimentício

Creme dental em pó de sílica hidratada de grau alimentício

Sílica precipitada para espessamento de creme dental Este dióxido de silício espessante é um produto de alta estrutura com alto valor de absorção de óleo, grande área de superfície específica, alto índice de refração e transmitância de luz, geralmente superior a 90 por cento. Tem boa compatibilidade, tamanho de partícula extremamente fino...

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Introdução de Produto

 

Pó de sílica precipitada hidratada espessante para pasta de dente de qualidade alimentar

 

 

Este dióxido de silício espessante é um produto de alta estrutura com alto valor de absorção de óleo, grande área de superfície específica, alto índice de refração e transmitância de luz, geralmente superior a 90 por cento. Tem boa compatibilidade, tamanho de partícula extremamente fino e força de água superior.

 

 

Silica for toothpaste for abrasive

JS-260 usado para creme dental é uma sílica precipitada, que tem boa absorção e alta dureza. Como agente espessante e agente abrasivo, ajuda a melhorar a viscosidade, suspensão e suavidade das pastas dentífricas e a torná-las mais fáceis de usar. Além disso, a hidrofobicidade da superfície deste agente ajuda a proporcionar uma excelente antiaderência a seco e a úmido. Além disso, melhora a resistência à abrasão, confere brilho e evita a precipitação, mantendo a pasta de dente homogênea. JS-260 também ajuda a reduzir a espuma dos cremes dentais e melhorar a resolução do conteúdo. Além disso, como um abrasivo fino, também ajuda a polir e remover a turbidez na superfície dos dentes.

 

Especificação:

JS-260

Métodos de teste

Propriedades

Unidades

Valores-alvo

(Limites de especificação)

Valores reais

HG/T3065-2008

Perda na secagem (2Hrs,105grau)加热减量

por cento

Máx.6,5

5.60

HG/T3066-2008

Perda de ignição 1000grau

灼烧减量

por cento

Máx.7.0

3.95

HG/T3072-2008

Valor de absorção de DBP

PAD吸收值

cm3/g

3.0-3.5

3.10

HG/T3067-2008

valor de pH (suspensão aquosa a 10 por cento) pH

6.0-8.0

6.81

HG/T3062-2008

SiO(Base seca)

2氧化硅(干基)

por cento

Min.98

98.1

HG/T3073-1999

BET área de superfície específica

APOSTA比表面积

m2/g

250-300

275

 

Sal solúvel (Na2ENTÃO4)

可溶性盐

por cento

Máx.1.0

0.48

 

 

 

 

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